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IF5179 (Fuori Produzione) Forno a camera a vuoto 1100C VBF-1200X-H8

Catalogo no. IF5179
Numero di articolo VBF-1200X-H8
Temperatura di lavoro 1000℃ continuamente
Temperatura massima di lavoro (℃) 1100℃, ≤30minuti
Dimensione della fotocamera φ240*210mm (7,6L)

Fuori Produzione

Ilforno a camera a vuoto 1100C VBF-1200X-H8 è un forno a vuoto compatto dotato di una camera a tubo di quarzo da 7,5" ID x 13,4" L posizionata orizzontalmente. Stanford Advanced Materials (SAM) ha una ricca esperienza nella produzione e fornitura di forni a muffola di alta qualità.

Prodotti correlati: Piccolo forno a muffola 1250C KSL-1200X-J, Piccolo forno a muffola 1200C con controllore programmabile separato KSL-1200X-J-F

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Descrizione
Specificazione

Forno a camera a vuoto 1100C VBF-1200X-H8 Descrizione

Ilforno a camera a vuoto 1100C utilizza un filo di resistenza come elemento riscaldante, una struttura a guscio a doppio strato e un controllo della temperatura programmabile a 50 stadi, termocoppia di tipo K. Il forno è realizzato in materiale di fibra di allumina di elevata purezza. La temperatura massima può raggiungere i 1100 gradi. Può funzionare continuamente a una temperatura di 1000 gradi e ha una precisione di controllo della temperatura di ±1 grado. Il forno presenta i vantaggi di un campo di temperatura uniforme, bassa temperatura superficiale, rapida salita e discesa della temperatura e risparmio energetico.

Forno a camera a vuoto 1100C VBF-1200X-H8 Caratteristiche tecniche

Velocità di riscaldamento

  • Max. 20℃/ min
  • Consigliato. 10℃/ min

Elementi di riscaldamento

  • Filo di resistenza Ni-Cr-Al di alta qualità

Potenza

  • Tensione: Monofase 208 - 240 VAC / 50/60Hz
  • 4 KW max.
  • Nota: il cavo di alimentazione è incluso ma non la spina. Si prega di installare una spina per conto proprio

Temperatura di lavoro

  • <= 1000 ℃ in continuo
  • Max. 1100 ℃, < 30 minuti
  • Uniformità della temperatura: +/- 1℃
  • Nota: <= 1150 ℃ in continuo è disponibile su richiesta con tubo al quarzo di grado GE214 a un costo aggiuntivo.

Tubo al quarzo e riscaldamento efficace

  • Dimensioni del tubo: 8" O.D. x 7,5" I.D x 13,4" L.
  • Area di riscaldamento: 7,5" ID x 8,5" Profondità (7,6 litri)
  • Zona di temperatura uniforme: 6" di diametro x 3,5" di profondità in posizione centrale entro +/- 5℃
  • Il tubo di quarzo è sostituibile.

Ingresso e uscita del gas e raffreddamento ad acqua

  • Ingresso gas di spurgo con valvola sul lato sinistro del forno (adattatore per tubo flessibile da 1/4").
  • Il gas inerte può essere introdotto nella camera attraverso l'ingresso per lo spurgo.
  • Se è necessario un flusso continuo di gas, fare riferimento agli ingressi gas e alle sonde per termocoppia aggiuntivi riportati di seguito.
  • Una camicia di raffreddamento ad acqua all'interno della flangia per proteggere l'O-ring di tenuta del vuoto. L'ingresso e l'uscita situati sul lato sinistro del forno servono per il collegamento al refrigeratore tramite due connettori con un diametro di 12 mm. Tubo in poliuretano (richiede un flusso d'acqua di 16 l/min).
  • Le temperature di riscaldamento superiori a 500℃ richiedono un refrigeratore (viene posizionato un blocco termico).

Regolatore di temperatura

  • È incluso un regolatore di temperatura digitale certificato NRTL.
  • Controllo proporzionale-integrale-derivativo (controllo PID) e funzione di autotuning
  • Programmazione a 30 segmenti con fasi di rampa, raffreddamento e sosta
  • Allarme di sovratemperatura incorporato e allarme di guasto della termocoppia
  • Precisione di controllo della temperatura di +/-1℃
  • Contiene una porta di comunicazione PC DB9 predefinita per il collegamento al PC
  • Il termoregolatore Eurotherm è disponibile a un costo aggiuntivo e ha una precisione di +/-0,1℃.

Opzioni

  • Il portacampioni non è incluso nel forno.
  • È possibile ordinare una barca per wafer al quarzo per ricuocere wafer fino a 6".
  • Il blocco termico al quarzo opzionale è disponibile su richiesta come blocco refrattario, che può aiutare a raggiungere un livello di vuoto più elevato e ad evitare potenziali problemi di contaminazione; si prega di ordinare il blocco termico al quarzo.
  • È possibile utilizzare un tubo di allumina a 4 fori da 1/4" per inserire 4 fili (ad esempio, fili di Pt) attraverso i fori per misurare le proprietà elettriche ad alta temperatura con un costo aggiuntivo.

Garanzia

  • Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita
  • ATTENZIONE: Eventuali danni causati dall'uso di gas corrosivi e acidi non sono coperti dalla garanzia limitata di un anno SAM.

 

Conformità

  • Certificazione CE
  • La certificazione NRTL o CSA è disponibile su richiesta con un costo aggiuntivo.
  • Numero Patten: ZL-2011-2-0102249.4 DAL 2011-5-19

Forno a camera sottovuoto 1100C VBF-1200X-H8 Applicazioni

Ilforno a camera a vuoto 1100C è progettato per la calcinazione o la ricottura di wafer di semiconduttori (fino a 6") sotto vuoto o in altre atmosfere gassose con una temperatura fino a 1100℃. Può essere utilizzato anche come forno per brasatura sotto vuoto.

Forno a camera a vuoto 1100C VBF-1200X-H8 Imballaggio

Il nostro forno a camera a vuoto 1100C VBF-1200X-H8 viene trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.

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