Descrizione del disco di grafite MOCVD
Ildisco di grafite MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) è un componente di grafite di elevata purezza utilizzato nei reattori MOCVD come intercettatore o supporto per wafer. Il disco di grafite MOCVD è caratterizzato da resistenza alle alte temperature, resistenza all'ossidazione, resistenza all'erosione, elevata purezza, resistenza ai sali acidi e alcalini e resistenza ai reagenti organici. Il MOCVD è un processo fondamentale nell'industria dei semiconduttori per depositare strati molto sottili di materiale su substrati, tipicamente utilizzati nella produzione di LED, celle solari e vari tipi di dispositivi a semiconduttore.
Specifiche del disco di grafite MOCVD
Densità
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g/cm3
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3.15-3.20
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Durezza Mohs
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-
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9.5
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Costante di lattice
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nm
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α 0.434
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Conduttività termica
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w/m-k
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80
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Tasso di espansione termica
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10-6℃-1
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4.7
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Applicazioni del disco di grafite MOCVD
- Deposizione di strati semiconduttori: I dischi di grafite sono utilizzati come substrati o supporti per wafer nella deposizione di vari strati di semiconduttori, come quelli utilizzati nei LED, nei diodi laser e nell'elettronica di potenza.
- Produzione di celle solari: Nella produzione di celle fotovoltaiche, i dischi di grafite MOCVD sono utilizzati per depositare film sottili che migliorano l'efficienza delle celle solari.
- Produzione di elettronica avanzata: Per i dispositivi che richiedono un controllo preciso delle proprietà dei materiali, come smartphone e tablet, i dischi di grafite MOCVD facilitano la deposizione di materiali con specifiche caratteristiche elettriche, ottiche e strutturali.
Confezionamento del disco di grafite MOCVD
I nostri dischi di grafite MOCVD sono trattati con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.