Descrizione dei materiali per l'evaporazione del boruro di afnio
Il materiale per l'evaporazione del boruro di afnio di Stanford Advanced Materials è un materiale per l'evaporazione di ossido con formula chimica HfB2. I materiali di evaporazione HfB2 di elevata purezza svolgono un ruolo fondamentale nei processi di deposizione per garantire un film depositato di alta qualità.
Stanford Advanced Materials (SAM) è specializzata nella produzione di materiali di evaporazione con purezza fino al 99,9995%, utilizzando processi di garanzia della qualità per garantire l'affidabilità del prodotto.
Specifiche dei materiali di evaporazione del boruro di afnio
Formula del composto |
HfB2 |
Aspetto |
Solido da marrone a nero |
Densità |
10,5 g/cm3 |
Punto di fusione |
3,250° C |
Forma |
Polvere/ Pellet/ Granulo/ Su misura |
Applicazione dei materiali di evaporazione del boruro di afnio
I materiali di evaporazione del boruro di afnio sono utilizzati nelle seguenti applicazioni:
- Utilizzati nei processi di deposizione, tra cui la deposizione di semiconduttori, la deposizione di vapore chimico (CVD) e la deposizione di vapore fisico (PVD).
- Utilizzato per l'ottica, compresa la protezione dall'usura, i rivestimenti decorativi e i display.
Imballaggio dei materiali di evaporazione del boruro di afnio
I materiali per l'evaporazione del boruro di afnio sono chiaramente etichettati e contrassegnati esternamente per garantire un'identificazione e un controllo di qualità efficienti. Viene prestata la massima attenzione per evitare qualsiasi danno che potrebbe essere causato durante lo stoccaggio o il trasporto.