IF5686 (Fuori Produzione) 1100C Forno verticale KSL-1100X-L-VT

Catalogo no.	IF5686
Numero di articolo	KSL-1100X-L-VT
Temperatura di lavoro	1000℃ continuamente
Temperatura massima di lavoro Temperatura di lavoro	1100℃, ≤1 ora
Dimensioni della camera di riscaldamento	400400400mm

Fuori Produzione

Ilforno verticale 1100C è un forno a due zone con caricamento dall'alto progettato per applicazioni ad alto vuoto, con una temperatura operativa massima di 1200°C. Stanford Advanced Materials (SAM) ha una ricca esperienza nella produzione e fornitura di forni ad alto vuoto a camera di alta qualità.

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Specificazione

Forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT Descrizione

Ilforno verticale 1100C è un forno verticale a tenuta di vuoto con una camera a tubi di quarzo di Ø200×Ø190×H425 mm, completa di flange e valvole in acciaio inox. Questo forno è dotato di una turbopompa Torr che consente di raggiungere un livello di vuoto di 10^-5 Torr. Progettato per la calcinazione o la ricottura di wafer di semiconduttori (fino a 8 pollici di diametro), funziona sotto vuoto o in diverse atmosfere gassose, raggiungendo temperature fino a 1100°C.

Forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT Caratteristiche tecniche

Caratteristiche	Isolamento in fibra di allumina di elevata purezza che circonda la camera Tre lati del forno sono riscaldati, con una velocità di riscaldamento rapida e un campo di temperatura uniforme.
Parametri di base	Temperatura massima di riscaldamento: 1100℃ (< 1 ora) Temperatura di riscaldamento continuo: 1000°C Velocità di riscaldamento consigliata: 10°C /min Elemento riscaldante: Filo di resistenza Ni-Cr-Al Termocoppia: Tipo K
Potenza	220V AC, 7,5 KW, 50Hz
Controllo della temperatura	È incluso un regolatore di temperatura digitale certificato NRTL Controllo proporzionale-integrale-derivativo (controllo PID) e funzione di autotune 50 segmenti programmati con fasi di rampa, raffreddamento e dimora Allarme integrato di sovratemperatura e di guasto della termocoppia Precisione di controllo della temperatura di +/- 1 ºC Porta di comunicazione PC DB9 predefinita inclusa per il collegamento al PC. Il termoregolatore Eurotherm è disponibile a un costo aggiuntivo con una precisione di +/-0,1°C.
Dimensioni complessive	980 mm L * 730 mm W * 880 mm H
Peso netto	125 kg
Garanzia	Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita. ATTENZIONE: eventuali danni causati dall'uso di gas corrosivi e acidi non sono coperti dalla garanzia limitata di un anno SAM.
Certificato	Certificazione CE La certificazione NRTL o CSA è disponibile a un costo aggiuntivo.

Forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT Applicazioni

Produzione di semiconduttori: Utilizzato per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore come wafer di silicio, MEMS (Sistemi Micro-Elettro-Meccanici) e celle fotovoltaiche. I forni verticali vengono utilizzati per processi quali ossidazione, diffusione, LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) e ricottura.
Deposizione di film sottili: Utilizzati per la deposizione di film sottili su substrati con tecniche quali CVD (Chemical Vapor Deposition), PVD (Physical Vapor Deposition) e ALD (Atomic Layer Deposition). I forni verticali forniscono un ambiente controllato per un controllo preciso dello spessore e della composizione del film.
Produzione di celle solari: Si applica alla produzione di celle solari e moduli fotovoltaici. I forni verticali sono utilizzati per processi quali la diffusione, la deposizione del rivestimento antiriflesso e la metallizzazione per migliorare l'efficienza e le prestazioni delle celle solari.

Forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT Imballaggio

Il nostro forno verticale 1100C KSL-1100X-L-VT viene trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.