Forno tubolare 1200C con meccanismo di spostamento interno OTF-1200X-S-HPCVD Descrizione
Ilforno tubolare 1200C è un forno compatto a tubo diviso da 2 pollici dotato di un sistema di spostamento interno del campione all'interno del tubo di lavorazione. Questo design innovativo consente un controllo preciso della posizione e della temperatura dello stadio campione o del crogiolo mediante un controller digitale touch screen.
Progettato principalmente per l'elaborazione termica rapida multifunzionale, il forno supporta una serie di applicazioni tra cui la deposizione ibrida di vapore fisico-chimico (HPCVD), l'evaporazione termica rapida (RTE) e la crescita cristallina Bridgman orizzontale (HDC). Queste capacità lo rendono ideale per la ricerca avanzata sui cristalli dei materiali di nuova generazione in varie atmosfere controllate.
Forno tubolare a 1200C con meccanismo di spostamento interno OTF-1200X-S-HPCVD Specifiche tecniche
Caratteristiche
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- Struttura a guscio a doppio strato con sistema di raffreddamento ad aria, in grado di ridurre efficacemente la temperatura della superficie del guscio
- Rivestimento in ossido di alluminio per migliorare l'efficienza di riscaldamento dell'apparecchiatura
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Temperatura di lavoro
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- Temperatura massima di riscaldamento: 1200℃ (≤30min)
- Temperatura di funzionamento: 1100℃
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Parametri di base
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- Elemento riscaldante: Lega Mo-Fe-Cr-Al
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Potenza
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220V AC, 2 KW, 50/60 Hz
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Controllo della temperatura
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- Controllo automatico PID tramite relè a stato solido con 30 passi programmabili
- Protezione integrata da sovratemperatura e guasto della termocoppia
- Precisione +/-1°C
- Coppia termica di tipo K
- Zona di riscaldamento Lunghezza: 200 mm (8")
- Zona a temperatura costante: 60 mm (+/-1°C @ 1000 °C)
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Tenuta del vuoto
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- Flangia a morsetto rapido da 2" con raccordi da 1/4'', vacuometro e valvola a spillo sul lato destro.
- La flangia destra è collegata a un soffietto in acciaio inox estensibile fino a 150 mm.
- Flangia sinistra con porta per il vuoto KF25 a serraggio rapido e valvola di sfiato a spillo da 1/4".
- Livello di vuoto max. Livello di vuoto: 10E-2 torr con pompa meccanica e 10-E5 con turbopompa
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Garanzia
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- Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita.
- ATTENZIONE: Eventuali danni causati dall'uso di gas corrosivi e acidi non sono coperti dalla garanzia limitata di un anno SAM.
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Certificato
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- Certificazione CE
- La certificazione NRTL o CSA è disponibile a pagamento.
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Forno tubolare a 1200C con meccanismo di spostamento interno OTF-1200X-S-HPCVD Applicazioni
Per il trattamento termico rapido multifunzionale, come la deposizione ibrida fisico-chimica (HPCVD), l'evaporazione termica rapida (RTE) e la crescita cristallina Bridgman orizzontale (HDC) in varie atmosfere per la ricerca sui cristalli di nuova generazione.
Forno tubolare 1200C con meccanismo di spostamento interno OTF-1200X-S-HPCVD Confezione
Il nostro forno tubolare 1200C con meccanismo di spostamento interno OTF-1200X-S-HPCVD viene trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.