ST1051 Target di sputtering al tantalio (Target di sputtering Ta)

Descrizione dei target di sputtering al tantalio

Stanford Advanced Materials (SAM) è rinomata per la fornitura di target sputtering al tantalio di alta qualità. Questi target meticolosamente lavorati sono realizzati con tantalio eccezionalmente puro, garantendo una composizione coerente e affidabile. La notevole densità del materiale aumenta l'efficienza dello sputtering e migliora l'adesione del film. L'eccezionale stabilità termica del tantalio consente ai target di sopportare un riscaldamento estremo durante lo sputtering, rendendoli adatti a una serie di processi ad alta temperatura. Inoltre, l'eccezionale resistenza alla corrosione del materiale garantisce che i target mantengano la loro integrità anche nelle condizioni di sputtering più difficili: i bassi livelli di impurità e il contenuto di gas nel tantalio garantiscono una qualità e un'uniformità superiori del film. Inoltre, la facilità di lavorazione del materiale consente una modellazione precisa in base alle specifiche esigenze applicative. Grazie a queste eccezionali proprietà, i target di sputtering al tantalio sono diventati il materiale preferito per depositare film di tantalio in una serie di settori, tra cui l'elettronica, l'ottica, l'energia solare a film sottile e lo stoccaggio magnetico. La loro adattabilità e affidabilità li rende un componente essenziale in numerosi processi di deposizione sputtering.

Specifiche dei target di sputtering al tantalio

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Forniamo anche dischi di tantalio di alta qualità.

Altre informazioni per il vostro riferimento
Composizione chimica:

Tantalio e leghe di tantalio

• R05200, tantalio non legato, fusione in forno a fascio di elettroni o arco a vuoto, o entrambi.
• R05400, tantalio non legato, consolidamento con metallurgia delle polveri.
• R05255, lega di tantalio, 90% tantalio, 10% tungsteno, forno a fascio elettronico o fusione sotto vuoto, o entrambi.
• R05252, lega di tantalio, 97,5% tantalio, 2,5% tungsteno, forno a fascio elettronico o arco a vuoto, o entrambi.
• R05240, lega di tantalio, 60% tantalio, 40% niobio, forno a fascio elettronico o arco a vuoto.

Applicazioni dei target di sputtering al tantalio

1. Elettronica: I target di sputtering al tantalio sono ampiamente utilizzati nell'industria elettronica per la deposizione di film di tantalio in circuiti integrati, condensatori e altri componenti microelettronici. L'elevata purezza e la resistenza alla corrosione del tantalio lo rendono un materiale ideale per queste applicazioni.

2. Ottica: I target di sputtering al tantalio sono utilizzati anche nell'industria ottica per la deposizione di film di tantalio su componenti ottici, come lenti e specchi. L'elevata trasparenza e durezza del tantalio lo rendono adatto a questa applicazione.

3. Energia solare a film sottile: I target di sputtering al tantalio sono impiegati nella produzione di celle solari a film sottile. La deposizione di film di tantalio sulle celle solari ne aumenta l'efficienza e l'affidabilità.

4. Immagazzinamento magnetico: Nell'industria dell'immagazzinamento magnetico, i target sputtering al tantalio sono utilizzati per depositare film di tantalio su dischi e nastri magnetici, migliorandone la durata e le prestazioni.

5. Rivestimenti decorativi: Grazie all'aspetto attraente del tantalio, i target sputtering al tantalio sono utilizzati anche nella produzione di rivestimenti decorativi per vari prodotti di consumo, come gioielli e orologi.

Imballaggio dei target sputtering al tantalio

I nostri target sputtering al tantalio sono trattati con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità dei nostri prodotti nelle loro condizioni originali.

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) per il vostro riferimento!