Descrizione dei bersagli in lega di niobio e afnio
La lega di niobio-afnio ha un punto di fusione eccessivo, un'anticorrosione e una lavorabilità di prim'ordine. La lega di niobio-afnio può essere utilizzata nei settori farmaceutico, dei semiconduttori, aeronautico, nucleare e così via. Gli obiettivi di sputtering ad alta purezza svolgono un ruolo fondamentale nei processi di deposizione per garantire un film depositato di alta qualità. Stanford Advanced Materials (SAM) è specializzata nella produzione di target in lega di niobio-afnio con purezza fino al 99,95%, utilizzando processi di assicurazione della qualità per garantire l'affidabilità del prodotto.
Specifiche dei target in lega di niobio afnio
Superficie
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Lucido
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Dimensioni
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Obiettivi circolari Diametro 10-400 mm Spessore 2-28
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Materiale
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R04295 (Nb-10Hf) Nb-10W-10Hf (Niobio 10%Tungsteno)
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Purezza
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99.9% 99.95% 99.99%
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Obiettivi in lega di niobio e afnio Applicazione
1. Produzione di semiconduttori: Utilizzati come obiettivi di sputtering nella produzione di dispositivi a semiconduttore come circuiti integrati (IC), transistor e diodi.
2. Memorizzazione dei dati: Impiegati nella produzione di supporti di registrazione magnetici, come hard disk (HDD) e nastri magnetici, per applicazioni di archiviazione dati ad alta densità.
3. Rivestimenti ottici: Applicati nella deposizione di film sottili per componenti ottici, lenti, specchi e filtri utilizzati in laser, strumenti ottici e dispositivi di telecomunicazione.
4. Celle solari: Utilizzate nella produzione di celle solari a film sottile per applicazioni fotovoltaiche grazie alla loro eccellente conduttività e stabilità.
Imballaggio dei bersagli in lega di niobio e afnio
I nostri bersagli in lega di niobio e afnio sono trattati con cura per evitare danni durante lo stoccaggio e il trasporto e per preservare la qualità dei nostri prodotti nelle loro condizioni originali.