Descrizione del target di sputtering al cromo (Cr)
Il target di cromo (Cr) è progettato per processi di deposizione fisica del vapore efficienti e affidabili. Prodotto con una purezza ≥99%, questo target è fabbricato con precisione per garantire prestazioni di sputtering ottimali, erosione uniforme e durata operativa prolungata. Il suo elevato punto di fusione e la sua densità contribuiscono a un'eccellente stabilità termica e alla durata durante il funzionamento continuo. Ideale per applicazioni high-tech, il target è adatto per dispositivi a semiconduttore, pannelli di visualizzazione avanzati e trattamenti superficiali decorativi.
Applicazioni dei target sputtering al cromo (Cr)
- Fabbricazione di semiconduttori: Essenziale per depositare strati conduttivi o di barriera nei dispositivi microelettronici.
- Tecnologia dei display: Utilizzato per la deposizione di film sottili nella produzione di pannelli di visualizzazione avanzati.
- Rivestimenti decorativi: Fornisce strati di cromo uniformi per finiture decorative e protettive.
- Rivestimenti ottici: Applicati nella produzione di rivestimenti riflettenti e antiriflesso.
- Utensili industriali: Migliora le proprietà superficiali per la resistenza all'usura e alla corrosione di vari componenti industriali.
Imballaggio del bersaglio di cromo (Cr) sputtering
I nostri target sputtering al cromo (Cr) sono confezionati con cura per mantenere l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e la consegna. Le opzioni di imballaggio standard includono il confezionamento sottovuoto, con soluzioni di imballaggio personalizzate disponibili su richiesta per soddisfare requisiti specifici di movimentazione e spedizione.
Domande frequenti
D: Che cos'è un bersaglio sputtering?
R: Un bersaglio sputtering è una sorgente di materiale utilizzata nei processi di deposizione fisica del vapore per formare film sottili su substrati bombardando la superficie del bersaglio con particelle energetiche.
D: Quali sono le applicazioni principali di un bersaglio sputtering al cromo?
R: È utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, nella tecnologia dei display, nei rivestimenti decorativi e nei componenti ottici.
D: Cosa si intende per sputtering in corrente continua in questo contesto?
R: Lo sputtering in corrente continua si riferisce all'uso di un plasma a corrente continua per erodere uniformemente il materiale di destinazione, garantendo una deposizione coerente del film sul substrato.
D: È possibile personalizzare la forma o le dimensioni del target di sputtering?
R: Sì, i nostri target di cromo (Cr) sono disponibili in dischi standard o possono essere personalizzati per soddisfare requisiti dimensionali e applicativi specifici.
D: In che modo la purezza del target influisce sulle prestazioni di sputtering?
R: Un target di elevata purezza (≥99%) riduce al minimo le impurità durante il processo di deposizione, garantendo un'eccellente qualità del film, uniformità e prestazioni complessive in applicazioni critiche.
