Descrizione dei materiali per l'evaporazione del manganese-nichel (Mn/Ni)
Stanford Advanced Materials (SAM) è specializzata nella produzione di materiali per l'evaporazione di elevata purezza e qualità per l'uso nei semiconduttori, nella deposizione chimica da vapore (CVD) e nella deposizione fisica da vapore (PVD) di display e applicazioni ottiche. La sinergia unica tra i nostri team di progettazione, produzione e analisi ci ha permesso di produrre materiali di evaporazione leader del settore.
I nostri materiali per l'evaporazione di Mn/Ni sono progettati con precisione e offrono una purezza, una consistenza e un'affidabilità eccezionali per applicazioni nei settori dell'elettronica, dell'ottica e non solo. Esplorate il potenziale di questi materiali per le vostre esigenze di deposizione di film sottili.
Specifichedei materiali per l'evaporazione di manganese e nichel :
Materiali
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Nichel manganese
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Densità
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7,2-8,9g/cm3
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Punto di fusione
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1246-1455℃
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Purezza
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99.9%
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Manganese Nichel Materiali di evaporazione Caratteristiche:
Elevata purezza: I nostri materiali per l'evaporazione di Mn/Ni sono realizzati con particolare attenzione alla purezza, riducendo al minimo le impurità per garantire film sottili di altissima qualità.
Composizione accurata: I rapporti di composizione del manganese (Mn) e del nichel (Ni) sono controllati meticolosamente per soddisfare i requisiti di deposizione, garantendo risultati affidabili.
Spessore uniforme del film: Ottenete un eccellente controllo dello spessore del film sottile, garantendo l'uniformità su ampie aree del substrato, un aspetto critico per molte applicazioni.
Eccellente stabilità termica: I materiali Mn/Ni presentano un'eccezionale stabilità termica durante la deposizione, impedendo l'espulsione delle particelle e garantendo una formazione del film omogenea e priva di difetti.
Applicazioni versatili: Adatti a un'ampia gamma di applicazioni, tra cui magnetica, ottica, elettronica e ingegneria delle superfici.
Soluzioni personalizzate: Offriamo opzioni di personalizzazione per adattare i materiali di evaporazione Mn/Ni alle vostre specifiche ed esigenze applicative.
Applicazionidei materiali di evaporazione del nichel manganese :
I nostri materiali per l'evaporazione del nichel manganese sono impiegati in diversi settori high-tech, tra cui:
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Dispositivi magnetici: Utilizzati nella produzione di film sottili magnetici per sensori, archiviazione dati e rivestimenti magnetici.
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Produzione di semiconduttori: Ideale per i processi di fabbricazione dei semiconduttori, compresa la deposizione di film sottili per i circuiti integrati.
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Rivestimenti ottici: Utilizzati per creare rivestimenti ottici per lenti, specchi e filtri in applicazioni ottiche e fotoniche.
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Ingegneria delle superfici: Applicata per modificare le proprietà della superficie, migliorare la resistenza all'usura e ridurre l'attrito in varie applicazioni ingegneristiche.
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Ricerca e sviluppo: Essenziale per i progetti di R&S che prevedono la deposizione di film sottili, studi di scienza dei materiali e ricerca accademica.
Imballaggiodei materiali di evaporazione al nichel manganese
I nostri materiali di evaporazione di nichel manganese (Mn/Ni) sono chiaramente etichettati ed etichettati esternamente per garantire un'identificazione efficiente e un controllo di qualità. Viene prestata la massima attenzione per evitare qualsiasi danno causato durante lo stoccaggio o il trasporto.
Perché scegliere i nostri materiali di evaporazione del nichel manganese?
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Garanzia di qualità: I nostri materiali di evaporazione Mn/Ni sono sottoposti a rigorosi processi di controllo della qualità per soddisfare e superare gli standard del settore.
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Competenza tecnica: Il nostro team di esperti vanta una vasta conoscenza della tecnologia di deposizione a film sottile e offre un supporto tecnico dedicato e una guida su misura per le vostre applicazioni specifiche.
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Soluzioni personalizzate: Siamo consapevoli che una taglia non va bene per tutti. Forniamo soluzioni personalizzate di materiali per l'evaporazione di Mn/Ni per soddisfare le vostre esigenze specifiche di deposizione di film sottile, garantendo precisione e prestazioni.