ST0414 Bersaglio di ossido di bario per sputtering, BaO

Catalogo no.	ST0414
Formula chimica	BaO
Numero CAS	1304-28-5
La purezza	99.9%, 99.95%, 99.99%
Forma	Dischi, piastre, bersagli a colonna, bersagli a gradini, personalizzati

Il target di sputtering in ossido di bario è disponibile in varie forme, purezza, dimensioni e prezzi. Stanford Advanced Materials (SAM) offretarget di sputtering in ossido di bario di alta qualità ai prezzi più competitivi.

Richiesta

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Descrizione

Specificazione

Scheda tecnica

Descrizione del target di sputtering all'ossido di bario

Il target sputtering all'ossido di bario è un tipo di target sputtering ceramico composto da bario e ossido. Il bario è un elemento chimico che deriva dal greco "barys", che significa pesante. È stato menzionato per la prima volta nel 1772 e osservato da W. Scheele. L'isolamento è stato successivamente realizzato e annunciato da H. Davy. "Ba" è il simbolo chimico canonico del bario. Il suo numero atomico nella tavola periodica degli elementi è 56, con collocazione nel Periodo 6 e nel Gruppo 2, appartenente al blocco s. La massa atomica relativa del bario è 137,327(7) Dalton, il numero tra parentesi indica l'incertezza.

Processo di produzione del target di ossido di bario per sputtering

- Produzione - Pressato a freddo - Sinterizzato, Elastomero legato alla piastra di supporto

- Pulizia e imballaggio finale, Pulizia per l'uso nel vuoto, Protezione dai contaminanti ambientali, Protezione durante la spedizione.

Specifiche del target di sputtering all'ossido di bario

Tipo di materiale	Ossido di bario
Simbolo	BaO
Colore/Aspetto	Bianco, solido cristallino
Punto di fusione	1,923°C
Sputtering	RF, RF-R, DC
Tipo di legame	Indio, elastomero
Dimensioni disponibili	Dia.: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″ Spessore: 0,125″, 0,250″.

Applicazioni dei target di sputtering all'ossido di bario

I target sputtering all'ossido di bario sono materiali essenziali utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Trovano ampia applicazione nella fabbricazione di film sottili, in particolare nella produzione di film ottici e dispositivi elettronici. Le applicazioni principali includono il rivestimento ottico, il rivestimento delle lenti, i filtri ottici e la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore.

Servizi di incollaggio dei target di sputtering all'ossido di bario

Per il target di sputtering all'ossido di bario sono disponibili servizi di incollaggio di target all'indio e elastomerici. Stanford Advanced Materials (SAM) si dedica alla lavorazione di piastre di supporto standard e collabora con la Taiwan Bonding Company per fornire servizi di incollaggio. Per domande sui materiali, i metodi e i servizi di incollaggio dei target, fare clic qui.

Imballaggio del target di sputtering all'ossido di bario

I nostri target sputtering all'ossido di bario sono etichettati e contrassegnati esternamente per garantire un'identificazione efficiente e un controllo di qualità. Viene prestata la massima attenzione per evitare qualsiasi danno che potrebbe essere causato durante lo stoccaggio o il trasporto.