ST0424 Target di sputtering FTO all'ossido di stagno drogato con fluoro
| Catalogo no. | ST0424 |
| Formula chimica | SnO2/F |
| La purezza | 99.9%, 99.99% |
| Forma | Dischi, piastre, bersagli a colonna, bersagli a gradini, personalizzati |
Il target di sputtering FTO all'ossido di stagno drogato al fluoro è disponibile in varie forme, purezza, dimensioni e prezzi. Stanford Advanced Materials (SAM) offre target di sputtering FTO all'ossido di stagno drogato al fluoro di alta qualità ai prezzi più competitivi.
Richiesta
Aggiungi alla lista delle richieste
Descrizione
Specificazione
ULTIMO RACCOMANDATO
ST0228 Target di sputtering in carburo di tantalio, TaC
ST0414 Bersaglio di ossido di bario per sputtering, BaO
ST0416 Bersaglio di sputtering al cesio, Cs
ST0434 Bersaglio di sputtering in ferrite di cobalto, CoFe2O4
ST0443 Target di sputtering all'ossido di rame e lantanio, La2CuO4
ST0444 Bersaglio di sputtering in ferrite di lantanio, LaFeO3
ST0453 Bersaglio di sputtering al silicato di litio, Li4SiO4
ST0460 Target di sputtering all'ossido di nichel e neodimio, NdNiO3
ST0463 Target di sputtering in niobato di potassio, KNbO3
Richiedi un preventivo
Inviaci una richiesta ora per scoprire ulteriori informazioni e gli ultimi prezzi, grazie!