Prodotti
  • Prodotti
  • Categorie
  • Blog
  • Podcast
  • Applicazione
  • Documento
|
OTTIENI UN PREVENTIVO
/ it
Seleziona lingua
Stanford Advanced Materials English
Stanford Advanced Materials Española
Stanford Advanced Materials Deutsch
Stanford Advanced Materials Français
Stanford Advanced Materials Italiano
Stanford Advanced Materials
/ it
Seleziona lingua
Stanford Advanced Materials English
Stanford Advanced Materials Española
Stanford Advanced Materials Deutsch
Stanford Advanced Materials Français
Stanford Advanced Materials Italiano

ST0463 Target di sputtering in niobato di potassio, KNbO3

Catalogo no. ST0463
Formula chimica KNbO3
La purezza 99.9%, 99.99%, 99.999%
Forma Dischi, piastre, bersagli a colonna, bersagli a gradini, personalizzati

Itarget di sputtering in niobato di potassio sono disponibili in varie forme, purezza, dimensioni e prezzi. Stanford Advanced Materials (SAM) è in grado di fornire materiali di sputtering personalizzati in base alle specifiche/disegni che ci vengono forniti.

Related products: Ossalato di potassio, Solfato di cromo(III) e potassio dodecaidrato, Ialuronato di potassio (HA-K) 

Richiesta
Aggiungi alla lista delle richieste
Descrizione
Specificazione

Descrizione del target di sputtering al niobato di potassio

Iltarget di sputtering di niobato di potassio è composto da potassio, niobio e ossigeno con la formula chimica KNbO3. I target di sputtering di niobato di potassio di elevata purezza svolgono un ruolo fondamentale nei processi di deposizione per garantire un film depositato di alta qualità. Stanford Advanced Materials (SAM) è specializzata nella produzione di target sputtering con purezza fino al 99,9995%, utilizzando processi di assicurazione della qualità per garantire l'affidabilità del prodotto.

Specifiche del target di sputtering in niobato di potassio

Tipo di materiale Niobato di potassio
Simbolo KNbO3
Colore/Aspetto Solido
Punto di fusione ≈ 1100 °C
Densità 4,640 g/cm3
Tipo di legame Elastomero, indio
Dimensioni disponibili Dia.: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″
Spessore: 0,125″, 0,250″.

Sono disponibili anche altre dimensioni. Si prega di contattarci per obiettivi di sputtering personalizzati.

Applicazione del target di sputtering al niobato di potassio

Il target di sputtering di niobato di potassio viene utilizzato per la deposizione di film sottili, la decorazione, i semiconduttori, i dispositivi di visualizzazione, i LED e i dispositivi fotovoltaici, il rivestimento funzionale, nonché altri settori dell'industria dello spazio di archiviazione delle informazioni ottiche, l'industria del rivestimento del vetro come il vetro dell'automobile e il vetro architettonico, la comunicazione ottica, ecc.

Servizi di incollaggio del target di sputtering al niobato di potassio

Il servizio di Target Bonding è disponibile per i target di sputtering di niobato di potassio. Stanford Advanced Materials (SAM) si dedica alla lavorazione di piastre di supporto standard e collabora con la Taiwan Bonding Company per fornire servizi di incollaggio.

Imballaggio dei target di sputtering in niobato di potassio

I nostri target sputtering di niobato di potassio sono trattati con cura per evitare danni durante lo stoccaggio e il trasporto e per preservare la qualità dei nostri prodotti nelle loro condizioni originali.

Richiedi un preventivo

Inviaci una richiesta ora per scoprire ulteriori informazioni e gli ultimi prezzi, grazie!

* Il suo nome
* La sua email
* Nome del prodotto
* Il vostro telefono
* Paese

Italia

    Purity

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diameter

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Other
    Thickness

    0.25''

    • 0.25''
    • 0.125''
    • All
    • Other
    Bonding

    Yes

    • Yes
    • No
    • Other
    Commenti
    * Codice di controllo
    Lascia un messaggio
    Lascia un messaggio
    * Il suo nome:
    * La sua email:
    * Nome del prodotto:
    * Il vostro telefono:
    * Commenti: