Descrizione del target di sputtering al bario (Ba)
Il target di sputtering al bario (Ba) è realizzato con bario di elevata purezza (≥99%) e progettato per applicazioni avanzate di sputtering con tecnologia RF. La sua forma precisa e personalizzabile garantisce prestazioni costanti nei processi di deposizione di film sottili. Progettato per soddisfare le esigenze delle industrie dei semiconduttori e dei rivestimenti ottici, questo target garantisce un trasferimento uniforme del materiale e una durata eccezionale negli ambienti di produzione.
Applicazioni del target di sputtering al bario (Ba)
- Deposizione di film sottili: Ideale per creare rivestimenti uniformi in pannelli di visualizzazione, dispositivi a semiconduttore e componenti ottici.
- Fabbricazione di componenti elettronici: Migliora le prestazioni e la durata dei dispositivi elettronici con una precisa deposizione di materiale.
- Ricerca e sviluppo: Adatto per le configurazioni sperimentali nella ricerca sui materiali avanzati e nell'ingegneria delle superfici.
- Rivestimenti industriali: Impiegato nella produzione di rivestimenti protettivi di alta qualità per macchinari e strumenti industriali.
Imballaggio del target di sputtering al bario (Ba)
I nostri target di sputtering al bario (Ba) sono fabbricati su misura e imballati con cura per garantire che la loro elevata purezza e le dimensioni precise siano mantenute durante lo stoccaggio e il trasporto. Ogni target è imballato in modo sicuro per prevenire la contaminazione e i danni fisici, garantendo così prestazioni ottimali al momento dell'applicazione.
Domande frequenti
D: Che cos'è un target di sputtering?
R: Un target di sputtering è un materiale utilizzato nei processi di deposizione fisica da vapore per trasferire materiale su un substrato mediante sputtering assistito da plasma.
D: Come viene prodotto il target di sputtering al bario (Ba)?
R: È prodotto con bario di elevata purezza (≥99%) e trasformato in dischi o forme personalizzate utilizzando tecniche di fabbricazione di precisione adatte alle applicazioni di sputtering RF.
D: Perché si usa lo sputtering RF con questo target?
R: Lo sputtering a radiofrequenza fornisce un processo di deposizione stabile e controllabile, garantendo rivestimenti uniformi di film sottili anche con materiali isolanti.
D: Il target può essere personalizzato?
R: Sì, le dimensioni e le forme disponibili possono essere personalizzate per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.
D: In quali settori industriali sono comunemente utilizzati i target di sputtering al bario?
R: Sono ampiamente utilizzati in settori quali i semiconduttori, la produzione di display, i rivestimenti ottici e la ricerca sui materiali avanzati.
