Descrizione del target di sputtering al cerio (Ce)
Il target di sputtering al cerio (Ce) è progettato per fornire prestazioni ottimali nei processi di deposizione di film sottili e di deposizione fisica da vapore. Prodotto con un'elevata purezza (≥99%), questo target garantisce rendimenti di sputtering costanti e formazione di film di alta qualità sia in condizioni RF che DC. Il suo design è in grado di accogliere sia dischi standard che forme personalizzate, rendendolo una scelta versatile per la fabbricazione di semiconduttori, rivestimenti ottici e applicazioni di ricerca avanzata. Le caratteristiche di robustezza del cerio garantiscono anche la durata in condizioni di lavorazione difficili, assicurando prestazioni affidabili in applicazioni critiche.
Applicazioni dei target sputtering al cerio (Ce)
- Produzione di semiconduttori: Ideale per depositare film sottili uniformi nei circuiti integrati e nei dispositivi elettronici.
- Rivestimenti ottici: Utilizzato per rivestimenti riflettenti e antiriflesso di precisione in applicazioni ottiche avanzate.
- Microelettronica: Supporta la fabbricazione di componenti di alta precisione in sensori, display e altri dispositivi.
- Ricerca e sviluppo: Ampiamente applicato nei laboratori che esplorano la scienza dei materiali avanzati e le nanotecnologie.
- Ingegneria delle superfici industriali: Serve vari processi di modifica della superficie in operazioni industriali ad alta richiesta.
Imballaggio del bersaglio di sputtering al cerio (Ce)
I nostri target sputtering al cerio (Ce) sono confezionati con cura per mantenere le loro condizioni e prestazioni incontaminate. Ogni target, che si tratti di un disco standard o di un design personalizzato, è sigillato sottovuoto in un imballaggio protettivo per garantire uno stoccaggio sicuro e un trasporto privo di contaminazioni.
Domande frequenti
D: Quali sono le principali applicazioni dei target di sputtering al cerio (Ce)?
R: Sono utilizzati principalmente nella produzione di semiconduttori, nei rivestimenti ottici, nella microelettronica e nella ricerca sui materiali avanzati per la deposizione di film sottili.
D: In che modo le modalità di sputtering RF e DC favoriscono le prestazioni del target?
R: La capacità di sputtering a doppia modalità consente condizioni operative flessibili, fornendo una deposizione ottimale del film e un'efficienza di sputtering uniforme in varie applicazioni industriali.
D: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, i nostri target di sputtering al cerio (Ce) sono disponibili come dischi standard o possono essere personalizzati per soddisfare requisiti applicativi specifici.
D: Quale livello di purezza è garantito in questi target di sputtering?
R: Ogni target è prodotto con un livello di purezza ≥99%, assicurando prestazioni costanti e una deposizione affidabile del film.
D: Come viene confezionato il prodotto per evitare la contaminazione durante il trasporto?
R: I target sono sigillati sottovuoto in imballaggi protettivi, per garantire che rimangano privi di contaminazione e in condizioni ottimali durante lo stoccaggio e la spedizione.
