CY3439 Wafer di silicio placcato con Ag (substrato SiO2/Si rivestito con Ag/Cr)

Catalogo no.	CY3439
Composizioni	Ag, Cr, SiO2, Si
Spessore del rivestimento	Cr 2-7nm Ag 50nm
Dimensione	4", 50 mm, 100 mm di diametro, o personalizzato
Spessore	0,525 mm, 0,279 mm
Lucidatura	Un lato lucidato

Ilsubstrato SiO2/Si rivestito di Ag/Cr può essere utilizzato nel campo delle nanotecnologie, nella microscopia elettronica a scansione (SEM), nella microscopia a forza atomica (AFM) e in altri campi del microscopio a scansione. Stanford Advanced Materials (SAM) ha una ricca esperienza nella produzione e fornitura di prodotti ottici di alta qualità.

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Descrizione

Specificazione

Descrizione del substrato SiO2/Si rivestito di Ag/Cr

Ilsubstrato SiO2/Si rivestito di Ag/Cr può essere utilizzato come substrato nel campo delle nanotecnologie, nella microscopia elettronica a scansione (SEM), nella microscopia a forza atomica (AFM) e in altri campi del microscopio a scansione, nonché nella coltura cellulare, nei microarray di DNA proteico e nei riflettometri. Il wafer di silicio di questo prodotto è generalmente placcato con uno strato di Cr con uno spessore di 2-7 nm e poi con uno strato di Ag con uno spessore di 50 nm.

Specifiche del substrato SiO2/Si rivestito con Ag/Cr

Composizione	Ag, Cr, SiO2, Si
Spessore del rivestimento	Cr 2-7nm Ag 50nm
Dimensione del substrato	4", 50 mm, 100 mm Dia, o personalizzato
Spessore	0,525 mm, 0,279 mm

Substrato SiO2/Si rivestito di Ag/Cr Applicazioni

Ampiamente utilizzato come substrato nel campo nano, nella microscopia elettronica a scansione (SEM), nella microscopia a forza atomica (AFM) e in altre gamme di microscopi a scansione, nonché nella coltura cellulare, nei microarray di DNA proteico e nei riflettometri.

Confezionamento del substrato SiO2/Si rivestito di Ag/Cr

Il nostro substrato SiO2/Si rivestito di Ag/Cr viene trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del prodotto nelle sue condizioni originali.