CY3437 Wafer di silicio placcato in oro (substrato SiO2/Si rivestito di Au/Cr)

Catalogo no.	CY3437
Composizioni	Au, Cr, SiO2, Si
Resistività	<0,005 ohm.cm
Dimensione del substrato	Diametro 4" +/- 0,5 mm x 0,5 mm
Lucidatura	Un lato lucidato
Rugosità della superficie	< 10 A RMS

Ilsubstrato SiO2/Si rivestito di Au/Cr può essere utilizzato nel campo delle nanotecnologie, nella microscopia elettronica a scansione (SEM), nella microscopia a forza atomica (AFM) e in altri campi del microscopio a scansione. Stanford Advanced Materials (SAM) ha una ricca esperienza nella produzione e fornitura di prodotti ottici di alta qualità.

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Composizione	Au, Cr, SiO2, Si
Pellicola	Au(111)=50 nm, ~ 50 nm a temperatura ambiente Cr=5 nm SiO2=300 nm Si(100) P drogato tipo B ~525 um Grado primario
Resistività	<0,005 ohm.cm
Dimensioni del substrato	4" di diametro +/- 0,5 mm x 0,5 mm
Lucidatura	Lucidato su un lato
Rugosità della superficie	< 10 A RMS

Composizione	Au, Cr, SiO2, Si
Film	Au(111)=50 nm, ~ 50 nm a temperatura ambiente Cr=5 nm SiO2=300 nm Si(100) P drogato tipo B ~525 um Grado primario
Resistività	<0,005 ohm.cm
Dimensioni del substrato	4" di diametro +/- 0,5 mm x 0,5 mm
Lucidatura	Lucidato su un lato
Rugosità della superficie	< 10 A RMS

CY3437 Wafer di silicio placcato in oro (substrato SiO2/Si rivestito di Au/Cr)

Descrizione del substrato SiO2/Si rivestito con Au/Cr

Specifiche del substrato SiO2/Si rivestito di Au/Cr

Substrato SiO2/Si rivestito di Au/Cr Applicazioni

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